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Spin Etcher

Spin Etcher
반도체 솔루션
Spin Etcher

Wafer 기판 위에 증착 된 금속막의 특정 부위를 Etchant를 사용하여 제거하는 장비

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SEMICONDUCTOR SOLUTIONS
Spin Etcher
SPECIFICATION
  • Wafer size
    6~12 inch
  • Process
    Custom
  • AP Field
    Wafer
  • Unit Composition
    Custom
  • Chemical
    Custom
FEATURES

Wafer 약액, 식각 장비 대응 기술 Wet Cleaner 설비 기술 대응